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LSAT 기판

간단한 설명:

고온 초전도체


제품 상세 정보

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설명

(La, Sr) (Al, Ta) O 3 는 상대적으로 성숙한 비결정성 페로브스카이트 결정으로 고온 초전도체 및 다양한 산화물 재료와 잘 어울립니다.란타늄 알루미네이트(LaAlO3)와 스트론튬 티타네이트(SrO3)는 다수의 실제 응용 분야에서 거대 자기전기 및 초전도 장치에서 대체될 것으로 예상됩니다.

속성

성장 방법

체코 성장

크리스탈 시스템

큐빅

결정학적 격자 상수

a= 3.868A

밀도(g/cm23)

6.74

녹는점(℃)

1840년

경도(모)

6.5

열 전도성

10x10-6케이

LaAlO3 기판 정의

LaAlO3 기판은 다양한 재료의 박막 성장을 위한 과학 기술 응용 분야에서 기판 또는 베이스로 사용되는 특정 재료를 말합니다.박막증착 분야에서 흔히 사용되는 란탄알루미네이트(LaAlO3)의 결정구조로 구성된다.

LaAlO3 기판은 높은 결정 품질, 다른 많은 재료와의 우수한 격자 불일치 및 에피택셜 성장에 적합한 표면을 제공하는 능력과 같이 박막 성장에 바람직하게 만드는 특성을 가지고 있습니다.

에피택셜은 필름의 원자가 기판의 원자와 정렬되어 고도로 정렬된 구조를 형성하는 기판 위에 얇은 필름을 성장시키는 프로세스입니다.

LaAlO3 기판은 다양한 장치 응용 분야에서 박막이 중요한 전자, 광전자 공학, 고체 물리학과 같은 분야에서 널리 사용됩니다.독특한 특성과 다양한 재료와의 호환성으로 인해 이 분야의 연구 개발에 중요한 기반이 됩니다.

고온 초전도체 정의

고온초전도체(HTS)는 기존 초전도체에 비해 상대적으로 높은 온도에서 초전도성을 나타내는 물질이다.기존의 초전도체는 전기 저항이 0이 되기 위해 일반적으로 -200°C(-328°F) 미만의 극도로 낮은 온도가 필요합니다.대조적으로, HTS 재료는 -135°C(-211°F) 이상의 높은 온도에서 초전도성을 달성할 수 있습니다.


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