LiF 기판
설명
LiF2 광학 크리스탈은 창문과 렌즈에 대한 IR 성능이 뛰어납니다.
속성
| 밀도(g/cm23) | 2.64 |
| 녹는점(℃) | 845 |
| 열 전도성 | 314K에서 11.3 Wm-1K-1 |
| 열 팽창 | 37×10-6/℃ |
| 경도(모) | 600g 인덴터가 있는 113(kg/mm2) |
| 비열 용량 | 1562J/(kg.k) |
| 유전 상수 | 100Hz에서 9.0 |
| 영률(E) | 64.79GPa |
| 전단 계수(G) | 55.14GPa |
| 벌크 계수(K) | 62.03GPa |
| 파열 계수 | 10.8MPa |
| 탄성계수 | C11=112;C12=45.6;C44=63.2 |
LiF 기판 정의
LiF(불화리튬) 기판은 광학, 포토닉스, 마이크로일렉트로닉스 분야에서 다양한 박막 증착 공정의 기초 또는 지지체로 사용되는 재료를 의미합니다.LiF는 밴드갭이 넓은 투명하고 절연성이 높은 결정입니다.
LiF 기판은 자외선(UV) 영역에서 탁월한 투명성과 열 및 화학 반응에 대한 높은 저항성으로 인해 박막 응용 분야에 일반적으로 사용됩니다.이는 광학 코팅, 박막 증착, 분광학 및 전자 현미경과 같은 응용 분야에 특히 적합합니다.
LiF 기판은 일반적으로 UV 범위에서 흡광도가 낮고 정확하고 정밀한 측정 또는 관찰을 위해 광학적으로 매끄러우므로 기판 재료로 선택됩니다.또한 LiF는 고온에서 우수한 안정성을 나타내며 열 증발, 스퍼터링 및 분자빔 에피택시와 같은 다양한 증착 기술을 견딜 수 있습니다.
LiF 기판의 특성으로 인해 UV 광학, 리소그래피 및 X선 결정학 분야의 응용 분야에 특히 적합합니다.환경적 요인에 대한 높은 저항성과 화학적 안정성으로 인해 다양한 연구 및 산업 응용 분야에 사용할 수 있는 다재다능한 소재가 되었습니다.
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LiF(불화리튬)는 적외선(IR) 특성이 뛰어나 창문, 렌즈용 광학 소재로 널리 알려져 있다.LiF2 광학 결정에 대한 몇 가지 핵심 사항은 다음과 같습니다.
1. 적외선 투명성: LiF2는 적외선 영역, 특히 중적외선 및 원적외선 파장에서 탁월한 투명성을 나타냅니다.약 0.15μm ~ 7μm 파장 범위의 빛을 전송할 수 있어 다양한 적외선 응용 분야에 적합합니다.
2. 낮은 흡수율: LiF2는 적외선 스펙트럼에서 흡수율이 낮아 재료를 통한 적외선의 감쇠를 최소화합니다.이는 높은 투과율을 보장하여 적외선 복사의 효율적인 투과를 보장합니다.
3. 높은 굴절률: LiF2는 적외선 파장 범위에서 높은 굴절률을 갖습니다.이 특성을 통해 적외선을 효율적으로 제어하고 조작할 수 있으므로 적외선 복사에 초점을 맞추고 구부려야 하는 렌즈 설계에 유용합니다.
4. 넓은 밴드갭: LiF2는 약 12.6eV의 넓은 밴드갭을 가지며, 이는 전자 전이를 시작하려면 높은 에너지 입력이 필요함을 의미합니다.이 특성은 자외선 및 적외선 영역에서 높은 투명성과 낮은 흡수율에 기여합니다.
5. 열 안정성: LiF2는 열 안정성이 뛰어나 성능 저하 없이 고온을 견딜 수 있습니다.따라서 열화상 시스템이나 적외선 센서와 같이 고온에 노출되는 애플리케이션에 적합합니다.
6. 내화학성: LiF2는 산과 알칼리를 포함한 많은 화학물질에 저항성이 있습니다.이러한 물질이 있어도 쉽게 반응하거나 분해되지 않으므로 LiF2로 만든 광학 장치의 장기적인 내구성과 신뢰성이 보장됩니다.
7. 낮은 복굴절: LiF2는 복굴절이 낮습니다. 이는 빛을 다른 편광 상태로 분할하지 않음을 의미합니다.이 특성은 간섭계나 기타 정밀 광학 시스템과 같이 편광 독립성을 요구하는 응용 분야에서 중요합니다.
전반적으로 LiF2는 적외선 스펙트럼에서 탁월한 성능을 발휘하는 것으로 높이 평가되어 다양한 적외선 응용 분야의 창 및 렌즈에 귀중한 재료가 됩니다.높은 투명성, 낮은 흡수성, 넓은 밴드갭, 열 안정성, 내화학성, 낮은 복굴절이 결합되어 탁월한 적외선 성능을 발휘합니다.
