CaF2 기질
설명
CaF2 광학 결정은 IR 성능이 뛰어나 강도 역학과 비흡습성을 가지며 광학 창에 널리 사용됩니다.
속성
| 밀도(g/cm23) | 3.18 |
| 융점(℃) | 1360 |
| 굴절률 | 5mm에서 1.39908 |
| 파장 | 0.13~11.3mm |
| 경도 | 158.3（100） |
| 유연한 계수 | C11=164、C12=53、C44=33.7 |
| 열 팽창 | 18.85×10-6∕℃ |
| 크리스탈 방향 | <100>、<001>、<111>±0.5° |
| 크기(mm) | 요청 시 맞춤형 서비스 이용 가능 |
CaF2 기질 정의
CaF2 기질은 불화칼슘(CaF2) 결정으로 구성된 기질 물질을 말한다.자외선(UV), 적외선(IR) 영역에서 높은 투과율을 보이는 등 광학적 특성이 우수한 투명 소재입니다.CaF2 기판은 광학, 분광학, 형광 및 레이저 시스템을 포함한 다양한 응용 분야에서 일반적으로 사용됩니다.이는 박막 성장, 코팅 증착 및 광학 장치 제조를 위한 안정적이고 불활성인 플랫폼을 제공합니다.CaF2는 높은 투명성과 낮은 굴절률로 인해 렌즈, 창, 프리즘, 빔 분할기와 같은 고정밀 광학 부품에 사용하기에 적합합니다.또한 CaF2 기판은 열적, 기계적 안정성이 뛰어나 열악한 환경과 고출력 레이저 시스템에 이상적입니다.CaF2 기판의 또 다른 장점은 낮은 굴절률입니다.낮은 굴절률은 반사 손실과 원치 않는 광학 효과를 최소화하여 광학 성능과 광학 장치 및 시스템의 신호 대 잡음비를 향상시킵니다.
CaF2 기판은 또한 우수한 열적 및 기계적 안정성을 가지고 있습니다.이 제품은 고온을 견딜 수 있고 뛰어난 열충격 저항성을 나타냅니다.이러한 특성으로 인해 CaF2 기판은 열 방출과 내구성이 중요한 고출력 레이저 시스템과 같은 까다로운 환경에서 사용하기에 적합합니다.
CaF2의 화학적 불활성도 이점을 제공합니다.광범위한 화학물질과 산에 대한 내성이 있고 취급이 용이하며 다양한 재료 및 제조 공정과 호환됩니다.
전반적으로 우수한 광학 특성, 열/기계적 안정성 및 화학적 불활성의 조합으로 인해 CaF2 기판은 고품질 광학 및 신뢰성이 필요한 응용 분야에 이상적입니다.
